IMS Nanofabrication GmbH
Unsere innovativen Multistrahlschreiber nehmen eine Schlüsselrolle in der Chip-Produktion ein und stellen einen wesentlichen Mehrwert für die Halbleiterindustrie dar. Sie werden von einem interdisziplinären Team laufend den aktuellen Anforderungen angepasst und weiterentwickelt.
In den vergangenen zehn Jahren haben wir die elektronenbasierte Multistrahl-Technologie perfektioniert. Die aktuelle Geräte-Generation (MBMW-101 – 1st generation Multi-Beam Mask Writer) ist heute erfolgreich in der ganzen Welt im Einsatz. Seit Anfang 2019 ist der Multistrahl-Maskenschreiber der 2. Generation MBMW-201 für die 5nm-Technologie-Node auf dem Markt.
Das Know-How von IMS ist durch unterschiedliche Experten aus einer Vielzahl von Disziplinen wie Entwicklung, Projektmanagement, Supply Chain, Produktion, Service und Administration geprägt.
Fakten
Branchen
Fachrichtungen
Produkte
Multistrahl-Elektronenlithographie-Geräte zur Herstellung der fortschrittlichsten Photomasken, EUV-Photomasken und Nanoimprint-Templates.
Standort/e
HQ Brunn: Wolfholzgasse 20 – 22, 2345 Brunn/Gebirge
Brunn: Rennweg 83, 2345 Brunn/Gebirge
Wien: Dresdnerstraße 47, 1200 Wien
Korea: B2334, 27, Dongtan Cheomdansaneop 1-ro,Hwaseong-si, 18469 Republic of Korea
Taiwan: No. 8, Daye 1st Road, Southern Taiwan Science Park Xinshi Dist., Tainan City 741, Taiwan R.O.C
Standort USA: IMS Nanofabrication LLC, San Tomas Commercial Park, 2960 Scott Blvd., 95054 Santa Clara, CA USA
Mitarbeiter/innen international
Über 600 weltweit
Praktika
ja
Einstiegsmöglichkeiten
Direkt nach Uni Abschluss möglich
Kontakt
Heinrich Oberholzer, Bsc, Mag. Ulrike Gemassmer, Mag. Stefanie Szing
+43 2236 37 310 - 346
imsjobs@ims.co.at
